Micro- and Nano-Fabrication by Metal Assisted Chemical Etching

Metal-assisted chemical etching (MacEtch) has recently emerged as a new etching technique capable of fabricating high aspect ratio nano- and microstructures in a few semiconductors substrates—Si, Ge, poly-Si, GaAs, and SiC—and using different catalysts—Ag, Au, Pt, Pd, Cu, Ni, and Rh. Several shapes...

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Format: Online
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: MDPI - Multidisciplinary Digital Publishing Institute 2021
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Online-Zugang:ONIX_20210501_9783039438457_35
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